中国科学院宁波材料技术与工程研究所

内嵌二苯并噻吩的高效窄谱带发光材料及其制备方法和应用

专利名称:内嵌二苯并噻吩的高效窄谱带发光材料及其制备方法和应用
专利(申请)号:CN202411867967.X
申请日期:2024-12-18
授权日期:
发明人:葛子义; 莘子如; 李伟; 吴林
其他发明人:
专利权人: