中国科学院宁波材料技术与工程研究所

含自旋禁止系统的二酰亚胺光致发光材料及其制法与应用

专利名称:含自旋禁止系统的二酰亚胺光致发光材料及其制法与应用
专利(申请)号:CN202310345707.5
申请日期:2023-03-28
授权日期:
发明人:阎敬灵; 徐远振; 张梦茹; 王震
其他发明人:
专利权人: