含自旋禁止系统的二酰亚胺光致发光材料及其制法与应用 专利名称:含自旋禁止系统的二酰亚胺光致发光材料及其制法与应用 专利(申请)号:CN202310345707.5 申请日期:2023-03-28 授权日期: 发明人:阎敬灵; 徐远振; 张梦茹; 王震 其他发明人: 专利权人: