电子注入层的前驱体材料、其制备方法及应用 专利名称:电子注入层的前驱体材料、其制备方法及应用 专利(申请)号:CN202310119919.1 申请日期:2023-02-08 授权日期: 发明人:樊军鹏; 徐锐; 章婷; 钱磊 其他发明人: 专利权人: